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  • ITO靶材基本知识讲解

    ITO材料是一种n型半导体材料,该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为:平板显示器(FPD)产业,如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(E
    发布时间:2016-03-29   点击次数:333

  • 溅射靶材磁控溅射的原理

    磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。  在电场
    发布时间:2016-03-29   点击次数:514

  • 磁控溅射靶材的原理介绍

    磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次
    发布时间:2016-03-29   点击次数:718

  • 靶材的主要性能要求介绍

    靶材的市场广阔,应用范围大,未来发展较大,为了帮助大家更多的了解靶材的性能,下面我们就为大家简单的介绍一下靶材的主要性能要求,希望对大家有所帮助。  纯度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影
    发布时间:2016-03-29   点击次数:802

  • 溅射靶材磁控溅射原理

    溅射靶材磁控溅射原理:  在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。  在电场的作用下,Ar气电离成正
    发布时间:2016-03-29   点击次数:138

  • 高纯铝溅射靶材行业的发展情况

    高纯铝溅射靶材行业的发展情况。随着电子新材料行业的快速发展,以高纯铝为基础的电子新材料产品(包括靶材)需求将保持高速增长。十一五期间,我国“国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域“大尺寸超高纯铝靶材的
    发布时间:2016-03-29   点击次数:476

  • 溅射靶材的应用领域

    溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。  信息存储产业:随着IT产业的不断发展,世界对记录介质的需求
    发布时间:2016-03-29   点击次数:169

  • 磁控溅射靶材行业的发展规律

    如果靶材是磁性材料,磁力线被靶材屏蔽,磁力线难以穿透靶材在靶材表面上方形成磁场,磁控的作用将大大降低。因此,溅射磁性材料时,一方面要求磁控靶的磁场要强一些,另一方面靶材也要制备的薄一些,以便磁力线能穿过靶材,在靶面
    发布时间:2016-03-29   点击次数:159

  • 讲解溅射靶材脱钛剂的效果

    靶材的应用范围广阔,市场发展空间巨大,脱钛剂结合PVD镀膜的特点而生产的一种高效环保无毒退膜药水。  脱钛剂由于具有无毒﹑环保的特点,所以绝不伤害电镀保护漆与基体,并迅速剥离IP涂层,起到了良好的分色效果。它主要
    发布时间:2016-03-29   点击次数:142

  • 讲解溅射靶材中频磁控溅射的知识

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出溅射靶材。在近
    发布时间:2016-03-29   点击次数:305

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