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铪，金属Hf，原子序数72，原子量178.49，熔点高，与锆共存。是一种带光泽的银灰色的过渡金属。有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。具有塑性的金属，当有杂质
发布时间：2016-06-01 点击次数：690
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2016中国（北京）国际靶材产品及镀膜工业展览会时间：2016年5月9-11日地点：北京·国家会议中心同期活动：2016靶材应用研讨会2016真空镀膜技术交流会■组织单位主办单位：中国
发布时间：2016-05-01 点击次数：630
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钼靶材主要用于平面显示行业，属于钼金属制品生产链最顶端产品新靶材含有与刀具及模具等的母材的密着性高、且润滑性出色的钼。因此可省去用于
发布时间：2016-04-22 点击次数：1055
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靶材的主要性能要求纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽
发布时间：2016-03-29 点击次数：736
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溅射靶材的分类金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化
发布时间：2016-03-29 点击次数：520
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(1) density，这个是最主要的，好的靶密度至少达到97%以上，所以大家买回靶来以后可以根据重量体积来计算一下 你们的靶的密度和理论块体的密度的比例有多少，低于90%的退货。 (2) 开裂问题，套磁靶很容易开裂，所以大家一定要求用c
发布时间：2016-03-29 点击次数：344
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目前全球各主要靶材制造商的总部，大多设立在美国、德国和日本。就美国而言.约有50家中小规模的靶材制造商及经销商，其中最大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服务，全球主要靶材制造商
发布时间：2016-03-29 点击次数：757
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真空溅射靶材的信息介绍，帮助大家更好的了解靶材行业的知识。 靶材技术指标：纯度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可根据用户要求调整Al2O3掺杂比(0-4)wt%]相对密度：d≥98%理论密度：ρ=5
发布时间：2016-03-29 点击次数：153
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可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。 直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高
发布时间：2016-03-29 点击次数：311
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第一：靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。
发布时间：2016-03-29 点击次数：220
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