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  • [行业新闻] 合金靶材的溅射原理

    合金靶材的溅射原理：对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射
    发布时间：2016-03-29   点击次数：467

  • [技术中心] 合金靶材溅射靶材使用指南及注意事项

    一、溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经
    发布时间：2016-03-29   点击次数：1493

  • [技术中心] 合金靶材-背靶使用指南

    一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是无氧铜，因为无氧铜具有良好的导电性和导热性，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下，如
    发布时间：2016-03-29   点击次数：355

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